अनुप्रस्थ चुंबकीय क्षेत्र संपर्क वर्तमान वितरण को नियंत्रित करके एक अनुप्रस्थ चुंबकीय क्षेत्र उत्पन्न करते हैं; यह क्षेत्र चाप को संपर्क सतह पर तेज गति से घूमने और घूमने के लिए प्रेरित करता है, जिससे गर्मी फैलती है और स्थानीयकृत जलन को रोका जा सकता है। अंतर्निहित सिद्धांत और कार्यान्वयन विधियाँ इस प्रकार हैं:
कोर ड्राइविंग तंत्र
अनुप्रस्थ चुंबकीय क्षेत्र क्रिया: संपर्क धारा द्वारा उत्पन्न अनुप्रस्थ चुंबकीय क्षेत्र चाप धारा के साथ संपर्क करके लोरेंत्ज़ बल उत्पन्न करता है, जो संकुचित चाप को संपर्क सतह पर स्पर्शरेखा या रेडियल रूप से स्थानांतरित करने के लिए प्रेरित करता है।
ऊर्जा फैलाव: चाप की उच्च गति घूर्णन और गति आर्किंग क्षेत्र का काफी विस्तार करती है, जिससे चाप द्वारा उत्पन्न अत्यधिक गर्मी समान रूप से फैलती है। यह संपर्क सतह पर किसी एक बिंदु पर अत्यधिक ताप सांद्रता को रोकता है, जिससे सर्किट ब्रेकर की तोड़ने की क्षमता और चाप क्षरण के प्रतिरोध में वृद्धि होती है।
विशिष्ट संरचनात्मक डिज़ाइन कार्यान्वयन
चाप को प्रभावी ढंग से "चलाने" में सक्षम बनाने के लिए, इंजीनियर चुंबकीय क्षेत्र और चाप के पथ को अनुकूलित करने के लिए विभिन्न संरचनात्मक डिजाइनों का उपयोग करते हैं:
मल्टीपल स्लॉटेड संरचना: दर्पण के कई जोड़े -सममित स्लॉट (जैसे सीधे स्लॉट) संपर्क खंडों की परिधि के चारों ओर समान रूप से दूरी पर होते हैं, जिससे एक सर्पिल या विशेष आकार का आर्क पथ बनता है। यह डिज़ाइन आर्क पथ को आर्किंग बिंदु के आधार पर गतिशील रूप से चुनने की अनुमति देता है, जिससे आर्क आंदोलन की एकरूपता में सुधार होता है।
छतरी के आकार की घुमावदार सतह का डिज़ाइन: अनुप्रस्थ चुंबकीय क्षेत्र को अधिक प्रभावी ढंग से उत्पन्न करने के लिए संपर्क मार्गदर्शन वर्तमान वितरण के लिए एक विशिष्ट छतरी के आकार की वक्रता को डिज़ाइन करना; बंद होने के दौरान गतिमान और स्थिर संपर्कों के बीच स्पर्शरेखीय सापेक्ष गति के साथ संयुक्त, यह स्थानीयकृत क्षरण को रोकता है।
कप के आकार का और आयरन कोर डिज़ाइन
कप के आकार का टीएमएफ संपर्क: वर्तमान वितरण को नियंत्रित करने और अनुप्रस्थ चुंबकीय क्षेत्र उत्पन्न करने के लिए एक अद्वितीय ज्यामितीय संरचना का उपयोग करता है। लौह कोर के साथ अनुप्रस्थ {{2} चुंबकीय {3} क्षेत्र (टीएमएफ) संपर्क: कप के आकार के संपर्क के आंतरिक भाग में एक बेलनाकार लौह कोर को शामिल करके, चाप पर अभिनय करने वाले स्पर्शरेखा चुंबकीय क्षेत्र घटक को बढ़ाया जाता है जबकि रेडियल घटक को कम किया जाता है; यह चाप नियंत्रण को बढ़ाता है, पिघली हुई धातु की बूंदों के छींटे को कम करता है, और चाप की गति को स्थिर करता है।
वर्तमान में, संपर्क सतहों पर चाप व्यवहार को नियंत्रित करने के लिए चुंबकीय क्षेत्र को वैक्यूम स्विच में नियोजित किया जाता है। इसमें मुख्य रूप से संपर्क सतह पर स्पर्शरेखा दिशा में तेजी से चलने के लिए वैक्यूम चाप को चलाने के लिए एक अनुप्रस्थ चुंबकीय क्षेत्र का उपयोग करना शामिल है, जिससे इलेक्ट्रोड सतह के चाप प्रेरित अपस्फीति को कम किया जा सकता है।

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